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X射線螢光(X-ray fluorescence, XRF)是將X射線或γ射線撞擊分析樣本時,激發出的次級X射線。是一種非破壞性分析,被廣泛用於元素分析和化學分析,分析樣本如金屬、玻璃、陶瓷等,也被運用於油畫、壁畫的顏料檢測,可以輔助了解採用的顏料並協助修復及維護工作
X射線繞射分析儀(X-ray diffractometer, XRD)是利用X光繞射的原理檢測研究物質內部結構的儀器。採用X光射線與分析樣本交互作用,藉由其生成的繞射圖譜來分析及判讀物質結構。除了研究材料結構之外,也可用於非晶體研究。